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電子郵件1010517

令函日期: 101-05-17
令函案號: 電子郵件1010517
令函要旨: 有關 您詢問的問題,本組答復如下:
一、 就著作權法方面,由於著作權法對於著作採「創作保護主義」,也就是著作人於著作完成時就享有著作權,並不需要辦理申請或登記。又著作權法所保護的「著作」,是指屬於文學、科學、藝術或其他學術範圍內的創作,並且應具備「原創性」及「創作性」,所以 您來函所說學生設計的作品,如有符合上述要件之作品,例如:美術工藝品、產品設計圖等,自屬於著作權法保護的著作,您於創作完成時起即享有該作品之著作權,受著作權法之保護。
二、 就專利法方面,關於技術公開至專利申請前之空窗期的保護問題,依現行專利法第110條第1至3項規定:「凡可供產業上利用之新式樣,無下列情事之一者,得依本法申請取得新式樣專利:一、申請前有相同或近似之新式樣,已見於刊物或已公開使用者。二、申請前已為公眾所知悉者。(第1項)新式樣有下列情事之一,致有前項各款情事,並於其事實發生之日起六個月內申請者,不受前項各款規定之限制:一、因陳列於政府主辦或認可之展覽會者。二、非出於申請人本意而洩漏者。(第2項)申請人主張前項第一款之情事者,應於申請時敘明事實及其年、月、日,並應於專利專責機關指定期間內檢附證明文件。(第3項)」,我國專利制度係採「先申請主義」,亦即於專利申請前之空窗期被抄襲,即使未來取得專利,亦無法對取得專利前之抄襲行為主張權利,此由現行專利法第125條第1項第2款規定:「新式樣專利權之效力,不及於下列各款情事…二、申請前已在國內使用,或已完成必須之準備者。但在申請前六個月內,於專利申請人處得知其新式樣,並經專利申請人聲明保留其專利權者,不在此限。」亦可明確得知。
三、 因此,來函所詢關於將公開展覽政府主辦或認可的展覽會之設計申請專利,是否具有可往回追溯半年期間,而他人申請相似專利不會通過之問題。依上述專利法第110條第1至3項之內容可知,申請人須於公開展覽其設計新式樣後6個月內申請專利,並於申請時主張優惠,始例外不受申請人自己於申請前已公開之設計的影響,得有可能取得專利。若他人搶先申請相同或相似之專利,依照現行專利法第118條第1項規定:「相同或近似之新式樣有二以上之專利申請案時,僅得就其最先申請者,准予新式樣專利。」則公開展覽在先但申請在後之申請人將無法獲准專利。專利法僅規定可寬限半年,使申請人於公開展覽後仍有機會取得專利,但並無阻止他人取得專利,以保護學生作品之相關規定,因此,申請人於展覽公開後仍宜儘速申請專利。
  • 發布日期 : 101-05-17
  • 發布單位 : 著作權組
  • 更新日期 : 102-02-25
  • 瀏覽人次 : 239
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