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本局將於4~6月試行面詢改善方案

  • 發布日期: 106 年 03 月 17 日
本局將於4~6月試行面詢改善方案
本局將於4~6月試行面詢改善方案

為了提升專利審查品質及效率,並協助當事人與審查人員間之雙向溝通,以降低彼此對案情認知之差距。本局於去(105)年度就現有面詢制度進行全面檢討,針對實務運作上常見的問題,例如辦理時機、事前準備、面詢程序及紀錄之製作等事項,經廣泛蒐集各界意見後,今(106)年3月已完成規畫了多項改善措施,即將於4月至6月試行。
面詢改善方案之重點如下:
1. 修正專利面詢作業要點:作業要點中新增「面詢申請,應以面詢申請書為之,敘明面詢事項與說明」之規定。當事人申請面詢,必須提交「面詢申請書」載明要面詢之事項並作簡要說明,具體指出申請面詢之必要性。
2. 修正「面詢申請書」及「面詢通知書」:新增「面詢所依據之審查版本」及「面詢事項及說明」等欄位,使當事人及審查人員於事前即可依所載之面詢事項預作準備,於面詢時依該事項進行雙向溝通,以提高面詢效益。
3. 規範面詢程序:製作「面詢須知」作為內部訓練教材,說明面詢時應進行之必要程序,例如:檢核及介紹人員身份、確認面詢事項、技術說明、意見交換及確認紀錄等步驟,以保障當事人應有的面詢權益。
4. 修正面詢紀錄表:修正現行面詢紀錄表,引領當事人及審查人員進行面詢事項及面詢程序,並開放當事人得自行攜帶電子設備,依本局「面詢紀錄表」之格式繕打其所陳述之意見。
對於前述面詢改善方案之重點,本局將於台北、新竹、台中、臺南、高雄舉辦一系列的說明會進行宣導、說明,並將蒐集各界反映之意見,於試行後再進行檢討及方案之修正。為提升舉發制度審查品質走向言詞審查已成為國際趨勢,本面詢改進方案亦將作為舉發審查口審制之準備。

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  • 發布單位:專利三組  更新日期: 106 年 03 月 29 日  瀏覽人次:3933