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面詢新制正式上路,同步修正專利案面詢作業要點並溯自七月一日生效

  • 發布日期: 106 年 07 月 03 日

 本(106)年度7月1日起,面詢新制正式上路,同時修正專利案面詢作業要點,該要點將規範當事人申請面詢應提出面詢申請書,以避免過去因當事人意思表示不清楚造成是否辦理面詢之爭議。此外,面詢申請書也要填寫面詢事項及說明,具體陳述面詢時所欲溝通之主題,便於雙方進行面詢時之溝通。
 為使申請人瞭解並適應面詢新制之運作,本局於今年4~6月已進行面詢改善方案之試行,該方案除採用新式面詢申請表、面詢通知書與面詢紀錄表外,專利各組副組長亦實際參與新面詢程序進行指導,協助當事人與審查人員間之雙向溝通,提升面詢品質及效率。
 試行期間各界就參與面詢曾發生的問題,諸如申請或辦理面詢之時機、文件代收人是否具有出席人員資格、面詢程序以及紀錄方式等方面給予指教與建議。本局亦就相關問題進行研議與討論,回應意見彙整如附件。另依本方案之滿意度調查結果顯示,各界對於面詢新制給予高度肯定及支持。
 面詢新制除了藉由「面詢事項與說明」以提升面詢效益外,未來本局亦將著手進行面詢空間與硬體設備之規劃與建置,希望透過新制措施及硬體之整合,建立更加友善及有效率之面詢溝通環境。

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  • 發布單位:專利三組  更新日期: 106 年 07 月 06 日  瀏覽人次:1918