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153筆資料
B 作業、運輸
B22 鑄造;粉末冶金
B22F 金屬粉末之加工;由金屬粉末製造製品;金屬粉末之製造(使材料顆粒化之一般方法或裝置見B01J2/00;用壓實或燒結之方法製造陶瓷見C04B,如C04B35/64;用於此類金屬之生產見C22類;一般金屬化合物之還原或分解見C22B;用粉末冶金法製造合金C22C;金屬粉末之電解生產見C25C5/00)
B22F 1/00 金屬粉末;金屬粉末之處理,如使之易於加工或改善其性質
B22F 1/02 (轉見B22F 1/00、1/102、1/16-1/18)
B22F 1/05 以金屬粉末之顆粒大小或表面積為特徵者[2022.01]
B22F 1/052 以混合不同顆粒大小或以粒度分布為特徵者[2022.01]
B22F 1/054 奈米粒子[2022.01]
B22F 1/0545 奈米粒子的懸浮或分散[2022.01]
B22F 1/06 以金屬粉末之顆粒形狀為特徵者[2022.01]
B22F 1/062 纖維狀顆粒[2022.01]
B22F 1/065 球形顆粒[2022.01]
B22F 1/0655 空心顆粒[2022.01]
B22F 1/068 片狀顆粒[2022.01]
B22F 1/07 以金屬粉末顆粒具有奈米級微結構為特徵者(奈米粒子見1/054) [2022.01]
B22F 1/08 以金屬粉末顆粒具有非晶質微結構為特徵者[2022.01]
B22F 1/10 含有潤滑劑或粘合劑之金屬粉末;含有有機物之金屬粉末[2022.01]
B22F 1/102 鍍有有機材料之金屬粉末[2022.01]
B22F 1/103 含有機潤滑劑,其中該潤滑劑混合有、或從反應中獲得除溶劑或潤滑劑外兩種以上的成分[2022.01]
B22F 1/105 含有無機潤滑劑或黏合劑,例如金屬鹽[2022.01]
B22F 1/107 含有包含溶劑的有機材料,例如用於注漿成型[2022.01]
B22F 1/12 含有非金屬顆粒的金屬粉末(含有潤滑劑、黏合劑或有機材料者見1/10) [2022.01]
B22F 1/14 金屬粉末之處理(與潤滑劑、黏合劑或有機材料混合者見1/10) [2022.01]
B22F 1/142 熱處理或機械熱處理[2022.01]
B22F 1/145 化學處理,例如鈍化或脫碳反應[2022.01]
B22F 1/148 凝聚[2022.01]
B22F 1/16 鍍有非金屬的金屬顆粒(鍍有潤滑劑、黏合劑或有機材料者見1/10) [2022.01]
B22F 1/17 鍍有金屬的金屬顆粒[2022.01]
B22F 1/18 鍍有金屬的非金屬顆粒[2022.01]
B22F 3/00 由金屬粉末製造工件或製品,其特點為用壓實或燒結的方法;所用的專用設備[2021.01]
B22F 3/02 僅壓實
B22F 3/03 其所用之壓模裝置[6]
B22F 3/035 具有一件或多件被樞接安裝之零組件者 [6]
B22F 3/04 採用流體壓力
B22F 3/06 用離心力
B22F 3/08 用爆炸力
B22F 3/087 利用高能脈衝者,例如,磁脈衝 [6]
B22F 3/093 利用振動 [6]
B22F 3/10 僅燒結
B22F 3/105 利用電流、雷射輻射或電漿者(3/11優先)[6]
B22F 3/11 製造多孔工件或製品者 [6]
B22F 3/115 採噴灑融熔金屬者,例如,噴灑燒結物、噴灑鑄造物 [6]
B22F 3/12 用壓實及燒結兩種方法(採鑄造者見3/17)[6]
B22F 3/14 同時的
B22F 3/15 絕熱加壓 [6]
B22F 3/16 依次的或重複的
B22F 3/17 採鍛造者 [6]
B22F 3/18 採壓力輥軋者 [6]
B22F 3/20 採擠製者
B22F 3/22 用於從漿料中製造鑄件
B22F 3/23 涉及自行擴散高溫合成或者反應燒結步驟者 [6]
B22F 3/24 工件或製品之後處理
B22F 3/26 浸漬
B22F 5/00 由金屬粉末製造特殊形狀之工件或製品
B22F 5/02 活塞環
B22F 5/04 渦輪葉片
B22F 5/06 螺紋製品,如螺母
B22F 5/08 有齒製品,如齒輪;凸輪盤
B22F 5/10 先前其他次目不包括之具有空穴或孔之製品 [6]
B22F 5/12 管或線材 [6]
B22F 7/00 包含壓實或不壓實燒結的金屬粉末之複合層、工件或製品的製造
B22F 7/02 複合層
B22F 7/04 有一層或多層不用粉末製造,如用整體金屬製造
B22F 7/06 由若干部分組成之複合工件或製品,如組成鑲片刀具
B22F 7/08 有一個或若干個部件並非用粉末製造者
B22F 8/00 以金屬廢料或者廢金屬顆料製造製品 [6]
B22F 9/00 製造金屬粉末或其懸浮物
B22F 9/02 用物理方法 [3]
B22F 9/04 從固體材料開始,如用破碎,磨粉或碾磨之方法(一般用破碎,磨粉或碾磨見有關次類如B02C)[3]
B22F 9/06 從液體材料開始 [3]
B22F 9/08 用鑄造方法,如利用篩或噴射水中,用霧化或噴霧方法(利用放電見9/14)[3]
B22F 9/10 利用離心力 [3]
B22F 9/12 從氣體材料開始 [3]
B22F 9/14 利用放電 [3]
B22F 9/16 用化學方法 [3]
B22F 9/18 利用金屬化合物之還原 [3]
B22F 9/20 從固體金屬合物開始 [3]
B22F 9/22 利用氣體還原劑 [3]
B22F 9/24 從液體金屬合物開始,如溶液 [3]
B22F 9/26 利用氣體還原劑 [3]
B22F 9/28 從氣體金屬化合物開始 [3]
B22F 9/30 利用金屬化合物之分解,如利用熱解作用 [3]
B22F 10/00 由金屬粉末進行工件或製品之積層製造 [2021.01]
B22F 10/10 生胚的形成 [2021.01]
B22F 10/12 藉由光聚合,如立體光固化成型[SLA]或數位光固化成型[DLP] [2021.01]
B22F 10/14 藉由將黏合劑噴射到金屬粉末床上 [2021.01]
B22F 10/16 藉由將黏合劑嵌入金屬粉末床 [2021.01]
B22F 10/18 藉由將黏合劑與金屬粉末混合成絲狀,如熔絲製造[FFF] [2021.01]
B22F 10/20 直接燒結或燒熔 [2021.01]
B22F 10/22 熔融金屬直接沉積 [2021.01]
B22F 10/25 金屬粉末直接沉積,如直接金屬沉積[DMD]或雷射近凈成型[LENS] [2021.01]
B22F 10/28 金屬粉末床之燒熔,如選擇性雷射燒熔[SLM]或電子束燒熔[EBM] [2021.01]
B22F 10/30 程序控制 [2021.01]
B22F 10/31 製程步驟或設備參數之校正,如在生產前或生產過程中 [2021.01]
B22F 10/32 大氣,如建模室中的氣體壓力或組成 [2021.01]
B22F 10/322 氣流調節,如速率或方向 [2021.01]
B22F 10/34 粉末特性,如密度、氧化或流動性 [2021.01]
B22F 10/36 能量束參數 [2021.01]
B22F 10/362 用於預熱 [2021.01]
B22F 10/364 用於後熱,如再熔化 [2021.01]
B22F 10/366 掃描參數,如掃描間距或掃描策略 [2021.01]
B22F 10/368 溫度或溫度梯度,如熔池的溫度 [2021.01]
B22F 10/37 粉末床,如密度 [2021.01]
B22F 10/38 為了達成特定物品性質,如表面平滑度、密度、孔隙率或空心結構 [2021.01]
B22F 10/39 可追溯性,如將標誌與工件或物品相結合者 [2021.01]
B22F 10/40 在製造期間支撐工件或物品的結構,並且在完成之後被破壞 [2021.01]
B22F 10/43 以其材料為特徵 [2021.01]
B22F 10/47 以其結構為特徵 [2021.01]
B22F 10/50 工件或物品於加工中之處理,如應用於融合層 [2021.01]
B22F 10/60 工件或物品於加工後之處理 [2021.01]
B22F 10/62 用化學方法 [2021.01]
B22F 10/64 用加熱方法(用於後熱之能量束參數控制見10/364) [2021.01]
B22F 10/66 用機械方法 [2021.01]
B22F 10/68 清潔或清洗 [2021.01]
B22F 10/70 回收 [2021.01]
B22F 10/73 粉末 [2021.01]
B22F 10/77 氣體 [2021.01]
B22F 10/80 數據採集或數據處理 [2021.01]
B22F 10/85 用於控制或調節積層製造的方法 [2021.01]
B22F 12/00 專門適用於積層製造的裝置或元件;用於積層製造之輔助方法;積層製造裝置或元件與其他加工裝置或元件之組合 [2021.01]
B22F 12/10 輔助加熱方法 [2021.01]
B22F 12/13 用於預熱材料 [2021.01]
B22F 12/17 用於加熱建模室內部或平台 [2021.01]
B22F 12/20 冷卻方法 [2021.01]
B22F 12/30 平台或基板 [2021.01]
B22F 12/33 在沉積平面上平移者 [2021.01]
B22F 12/37 可旋轉者 [2021.01]
B22F 12/40 輻射方法[2021.01]
B22F 12/41 以輻射類型為特徵,如雷射或電子束 [2021.01]
B22F 12/42 發光二極體[LED] [2021.01]
B22F 12/43 脈衝;調頻 [2021.01]
B22F 12/44 其特徵在於輻射裝置的配置 [2021.01]
B22F 12/45 有兩個或兩個以上 [2021.01]
B22F 12/46 具有平移運動 [2021.01]
B22F 12/47 與沉積平面平行 [2021.01]
B22F 12/48 高度,如與沉積平面垂直 [2021.01]
B22F 12/49 掃描器 [2021.01]
B22F 12/50 供料裝置,如出料頭[2021.01]
B22F 12/52 料斗 [2021.01]
B22F 12/53 噴嘴 [2021.01]
B22F 12/55 兩個或兩個以上的供料裝置 [2021.01]
B22F 12/57 測量裝置 [2021.01]
B22F 12/58 用於改變材料組成,如混合 [2021.01]
B22F 12/60 平坦化裝置;壓縮裝置[2021.01]
B22F 12/63 滾子 [2021.01]
B22F 12/67 刀片 [2021.01]
B22F 12/70 利用氣流者 [2021.01]
B22F 12/80 工廠,生產線或模組 [2021.01]
B22F 12/82 積層製造裝置或元件與其他加工裝置或元件之組合 [2021.01]
B22F 12/84 於單一裝置內並行處理 [2021.01]
B22F 12/86 利用群組內多個裝置進行序列式處理[2021.01]
B22F 12/88 搬運積層製造之產品,如使用機器人 [2021.01]
B22F 12/90 用於程序控制的裝置,如攝影機或感測器 [2021.01]
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