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36筆資料
C 化學;冶金;組合化學
C01 無機化學(準備用於生產陶瓷產品的無機化合物粉末的加工見C04B35/00;製備元素或二氧化碳以外無機化合物之發酵或用酶工藝見C12P3/00;用混合物,如礦石,製取用於提煉游離金屬之冶金工藝中間化合物見C21B,C22B;用電解法或電泳法生產非金屬元素或無機化合物見C25B)
C01C 氨;氰;其化合物(鹵素之含氧酸鹽見C01B11/00;過氧化物,過氧酸鹽見C01B15/00;硫代硫酸鹽,連二亞硫酸鹽,連多硫酸鹽見C01B17/64;含硒或碲之化合物見C01B19/00;疊氮化合物見C01B21/08;金屬氨化物見C01B21/092;亞硝酸鹽見C01B21/50;磷化物見C01B25/08;磷之含氧酸鹽見C01B25/16;含矽化合物C01B33/00;含硼化合物見C01B35/00)
C01C 1/00 氨;其化合物
C01C 1/02 氨之製備或分離
C01C 1/04 合成法製氨(氨合成用氣體混合物之製備或淨化見C01B 3/02)
C01C 1/08 用含氮有機物製氨
C01C 1/10 由粗氨水,如煤氣水中分離氨
C01C 1/12 由氣體及蒸汽中分離氨
C01C 1/14 飽和器
C01C 1/16 銨之鹵化物
C01C 1/18 銨之硝酸鹽
C01C 1/20 硫化物;多硫化物
C01C 1/22 銨之亞硫酸鹽
C01C 1/24 銨之硫酸鹽(1/14優先)
C01C 1/242 用氨及硫酸或三氧化硫製備[2]
C01C 1/244 用銨鹽與硫酸鹽之複分解法製備 [2]
C01C 1/245 用含氮及硫之化合物製備 [2]
C01C 1/246 用含硫之銨化合物 [2]
C01C 1/247 用游離氧氧化法 [2]
C01C 1/248 防止結塊或控制晶體之形狀或大小 [2]
C01C 1/249 晶體之脫酸 [2]
C01C 1/26 銨之碳酸鹽或酸式碳酸鹽
C01C 1/28 銨鹽之一般製備方法
C01C 3/00 氰;其化合物
C01C 3/02 氰化氫之製備
C01C 3/04 由氣體中分離
C01C 3/06 氰化氫之穩定
C01C 3/08 簡單的或錯合的金屬氰化物
C01C 3/10 簡單鹼金屬氰化物 [3]
C01C 3/11 錯合氰化物 [3]
C01C 3/12 簡單的或錯合的鐵氰化物 [2]
C01C 3/14 氰酸;其鹽類
C01C 3/16 氨基氰;其鹽類(雙氰胺見C07C 279/28)
C01C 3/18 氰氨化鈣
C01C 3/20 硫氰酸;其鹽類
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