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C 化學；冶金；組合化學
C02 水、廢水、污水或污泥之處理（沉澱池，過濾，如砂濾池或篩選裝置見B01D）
C02F 水、廢水、污水或污泥之處理（一般分離見B01D；有關處理水、廢水或污水，如淡水生產裝置之水運容器之特殊設備見B63J；為防止腐蝕而加入水之添加物質見C23F；放射性廢液之處理見G21F9/04）[3]
C02F 1/00 水、廢水或污水之處理（3/00至9/00優先）[3]
C02F 1/02 加熱法（蒸汽發生法見F22B；預熱鍋爐給水或預熱鍋爐給水之蓄存見F22D）[3]
C02F 1/04 蒸餾或蒸發 [3]
C02F 1/06 閃蒸 [3]
C02F 1/08 薄膜蒸發 [3]
C02F 1/10 與作為傳熱介質之固體顆粒或流體直接接觸 [3]
C02F 1/12 噴霧蒸發 [3]
C02F 1/14 利用太陽能 [3]
C02F 1/16 利用其他工藝中之廢熱 [3]
C02F 1/18 獲得飲用水之移動式裝置 [3]
C02F 1/20 脫氣法，即溶解氣體之釋放(一般液體脫氣見B01D19/00；鍋爐給水中脫氣裝置設備見F22D)[3]
C02F 1/22 冷凍法 [3]
C02F 1/24 浮選法（1/465優先）[3,5]
C02F 1/26 萃取法 [3]
C02F 1/28 吸附法（離子交換法見1/42；吸附劑之組成見B01J）[3]
C02F 1/30 光照法 [3]
C02F 1/32 用紫外線者 [3]
C02F 1/34 機械振動法 [3]
C02F 1/36 超音波振動 [3]
C02F 1/38 離心分離法 [3]
C02F 1/40 分離或去除油脂或油狀物質或類似浮游物之裝置（淨化或防止油或類似物對露天水面之污染見E02B15/04；於污水管中分離污水之液體或固體物質之裝置見E03F5/14，例如，用於導入污水管之排水裝置見E03F5/16）[3,5]
C02F 1/42 離子交換法（一般離子交換法見B01J）[3]
C02F 1/44 滲析法、滲透法或反滲透法 [3]
C02F 1/46 用電化學方法 [3,5]
C02F 1/461 用電解法 [5]
C02F 1/463 用電凝聚法 [5]
C02F 1/465 用電浮選法 [5]
C02F 1/467 用電化學殺菌法 [5]
C02F 1/469 用電化學分離、如用電滲透、電滲析，電泳 [5]
C02F 1/48 用磁場或電場者（1/46優先）[3]
C02F 1/50 添加或使用殺菌劑或用微動力處理（1/467優先）[3,5]
C02F 1/52 懸浮雜質之絮凝或沉澱 [3]
C02F 1/54 使用有機物 [3]
C02F 1/56 高分子化合物 [3]
C02F 1/58 除去特定之溶解化合物（所用之離子交換法見1/42；水之軟化見5/00）[3]
C02F 1/60 矽化合物 [3]
C02F 1/62 重金屬化合物 [3]
C02F 1/64 鐵或錳者 [3]
C02F 1/66 利用中和法；pH之調節（脫氣見1/20；用離子交換見1/42；懸浮雜質之絮凝或沉澱見1/52；溶解化合物之除去見1/58）[3]
C02F 1/68 添加特定之物質，如微量元素以改善飲用水質(醫藥用水見A61K)[3]
C02F 1/70 還原法 [3]
C02F 1/72 氧化法 [3]
C02F 1/74 用空氣(水面之曝氣見7/00)[3]
C02F 1/76 用鹵素或鹵素化合物 [3]
C02F 1/78 用臭氧 [3]
C02F 3/00 水、廢水或污水之生物處理 [3]
C02F 3/02 好氧處理 [3]
C02F 3/04 使用滴濾池 [3]
C02F 3/06 使用地下滲濾池 [3]
C02F 3/08 使用運動之接觸體 [3]
C02F 3/10 填充物；填料；格柵(填充部件本身見B01J19/30，19/32)[3]
C02F 3/12 活性污泥法 [3]
C02F 3/14 採用表面曝氣器 [3]
C02F 3/16 有豎軸之曝氣器 [3]
C02F 3/18 有橫軸之曝氣器 [3]
C02F 3/20 採用擴散器 [3]
C02F 3/22 採用循環管 [3]
C02F 3/24 採有自由降落曝氣或噴霧[3]
C02F 3/26 使用純氧或富氧氣體者 [3]
C02F 3/28 厭氧消化處理 [3]
C02F 3/30 好氧與厭氧處理 [3]
C02F 3/32 以利用動物或植物為特徵者，如藻類 [3]
C02F 3/34 以利用微生物為特微者 [3]
C02F 5/00 水之軟化；防垢；加入水中之防垢劑或除垢劑，如添加多價螯合劑(利用離子交換軟化法見1/42)[3]
C02F 5/02 硬度之沈澱法軟化水 [3]
C02F 5/04 使用磷酸鹽者（5/06優先）
C02F 5/06 使用鈣化合物者 [3]
C02F 5/08 為軟化，防垢或除垢用配合物或其他增溶劑處理，如添加多價螯合劑 [3]
C02F 5/10 使用有機物質者 [3]
C02F 5/12 含氮者（5/14優先）[3]
C02F 5/14 含磷者 [3]
C02F 7/00 水面之曝氣 [3]
C02F 9/00 水、廢水或污水之多級處理 [3]
C02F 9/02 包括一項分離步驟者 [7]
C02F 9/04 至少有一個化學處理步驟 [7]
C02F 9/06 電化學處理 [7]
C02F 9/08 至少有一個物理處理步驟 [7]
C02F 9/10 熱處理 [7]
C02F 9/12 輻射處理或以電場或磁場處理 [7]
C02F 9/14 至少有一個步驟為生物處理 [7]
C02F 11/00 污泥之處理；其裝置 [3]
C02F 11/02 生物處理
C02F 11/04 厭氧處理；用此工藝生產甲烷 [3]
C02F 11/06 氧化法（燃燒廢液，如造紙廠亞硫酸鹽溶液之焚燒爐或其他裝置，見F23G7/04）[3]
C02F 11/08 濕氣氧化 [3]
C02F 11/10 熱解法 [3]
C02F 11/12 脫水法，乾燥法，或濃縮法 [3]
C02F 11/14 添加化學試劑者 [3]
C02F 11/16 使用乾燥床或堆肥床 [3]
C02F 11/18 加熱處置（熱解見11/10）[3]
C02F 11/20 冷凍法 [3]
C02F 101/00 污染物之性質 [7]
C02F 101/10 無機化合物 [7]
C02F 101/12 鹵素或含鹵素化合物 [7]
C02F 101/14 氟或含氟化合物 [7]
C02F 101/16 氮化物，例如氨 [7]
C02F 101/18 氰化物 [7]
C02F 101/20 重金屬或重金屬化合物 [7]
C02F 101/22 鉻或鉻化物，例如鉻酸鹽[7]
C02F 101/30 有機化合物 [7]
C02F 101/32 碳氫化合物，例如油 [7]
C02F 101/34 含氧者 [7]
C02F 101/36 含鹵素者 [7]
C02F 101/38 含氮者 [7]
C02F 103/00 待處理水、廢水、污水或污泥之性質 [7]
C02F 103/02 未污染水，例如工業供水 [7]
C02F 103/04 為取得純水或超純水 [7]
C02F 103/06 被污染之地下水或瀝濾水 [7]
C02F 103/08 海水，例如為了脫鹽分 [7]
C02F 103/10 來自採石場或採礦活動者 [7]
C02F 103/12 來自矽酸鹽或陶瓷工業者，例如來自水泥廠和玻璃廠之廢水 [7]
C02F 103/14 塗料廢棄物 [7]
C02F 103/16 來自冶金加工者，亦即來自金屬生產、精製或處理，例如電鍍廢棄物 [7]
C02F 103/18 來自氣體排放物的濕式純化者 [7]
C02F 103/20 來自畜牧業者 [7]
C02F 103/22 來自各種動物加工者，例如家禽、魚類或其各身體部分 [7]
C02F 103/24 來自製革廠者 [7]
C02F 103/26 來自各種植物或其各部分加工者 [7]
C02F 103/28 來自造紙或纖維素生產工業者 [7]
C02F 103/30 來自紡織工業者 [7]
C02F 103/32 來自食品或食料工業者，例如釀酒廠廢水 [7]
C02F 103/34 來自103:12至103:32未包含之其他化學工業者 [7]
C02F 103/36 來自有機化合物之生產者 [7]
C02F 103/38 聚合物 [7]
C02F 103/40 來自感光材料之生產或使用者 [7]
C02F 103/42 來自浴場設施者，例如游泳池 [7]
C02F 103/44 來自洗車設施者 [7]
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