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國際專利分類查詢
| C | 化學；冶金；組合化學 |
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| C23 | 對金屬材料之鍍覆；用金屬材料對材料之鍍覆（紡織品之金屬化見D06M11/83；用局部金屬化法裝飾紡織品見D06Q1/04）；表面化學處理；金屬材料之擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沈積法之一般鍍覆（作特殊應用者，見有關位置，例如用於電阻器製造見H01C17/06）；金屬材料腐蝕或積垢之一般抑制（用電解法或電泳法處理金屬表面或鍍覆金屬見C25D、F）[2] |
| C23D | 金屬之搪瓷或塗玻璃層 |
| C23D 1/00 | 瓷釉之熔化或熱熔；所用的設備或爐子 |
| C23D 1/02 | 熔融物之粒化；粒之乾燥 |
| C23D 3/00 | 塗瓷料前金屬表面之化學處理 |
| C23D 5/00 | 搪瓷或搪玻璃層 [4] |
| C23D 5/02 | 用濕法 |
| C23D 5/04 | 用乾法 |
| C23D 5/06 | 印圖或文字 |
| C23D 5/08 | 表面不均勻地塗敷瓷料 |
| C23D 7/00 | 塗層處理，例如燒製前之乾燥 |
| C23D 9/00 | 燒瓷釉專用爐 |
| C23D 9/02 | 非電加熱之馬弗爐 [1,2006.01] |
| C23D 9/04 | 非電加熱之隧道式窯 |
| C23D 9/06 | 電爐 |
| C23D 9/08 | 燃燒桿之支撐裝置 |
| C23D 9/10 | 裝料或卸料裝置 |
| C23D 11/00 | 連續處理；所需設備 |
| C23D 13/00 | 搪瓷件之後處理 |
| C23D 13/02 | 用瓷釉局部再熔化法去除缺陷，整形 |
| C23D 15/00 | 用一次搪瓷法將若干搪瓷件與其他搪瓷件同時聯結 |
| C23D 17/00 | 去除瓷釉 |