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C 化學;冶金;組合化學
C25 電解或電泳工藝;其所用的設備(電滲析,電滲,液體之電分離見B01D;以高電流密度作用之金屬加工法見B23H;借助電化學方法以處理水,廢水或污水見C02F1/46;涉及C23主類所列的至少一種工藝及本主類所列的至少一種工藝之金屬材料表面處理或被覆見C23C 28/00,C23F17/00;陽極或陰極保護見C23F;單晶生長見C30B;紡織品之金屬化見D06M11/83;借助局部金屬化以裝飾紡織品見D06Q 1/04;電化學分析方法見G01N;電化學測量、指示或記錄裝置見G01R;電解電路元件,例如電容器見H
C25C 電解法生產、回收或精煉金屬之工藝;其所用的設備 [2]
C25C 1/00 由溶液電解法電解生產、回收或精煉金屬(5/00優先)[2]
C25C 1/02 輕金屬者 [2]
C25C 1/04 汞陰極電解槽內 [2]
C25C 1/06 鐵族金屬、難熔金屬或錳者 [2]
C25C 1/08 鎳或鈷者 [2]
C25C 1/10 鉻或錳者 [2]
C25C 1/12 銅者 [2]
C25C 1/14 錫者 [2]
C25C 1/16 鋅、鎘或汞者 [2]
C25C 1/18 鉛者 [2]
C25C 1/20 貴金屬者 [2]
C25C 1/22 未列入1/02至1/20各目之金屬者 [2]
C25C 1/24 陰極還原其全部離子所製得的合金 [2]
C25C 3/00 由熔融液電解法電解生產、回收或精煉金屬(5/00優先)[2]
C25C 3/02 鹼金屬或鹼土金屬者 [2]
C25C 3/04 鎂者 [2]
C25C 3/06 鋁者 [2]
C25C 3/08 電解槽之結構,例如底壁、陰極 [2]
C25C 3/10 外部支架或結構 [2]
C25C 3/12 陽極 [2]
C25C 3/14 供料裝置或殼破碎裝置 [2]
C25C 3/16 電流供給裝置,例如匯流排[2]
C25C 3/18 電解流 [2]
C25C 3/20 電解槽之自動控制或調節(控制或調節本身見G05) [2]
C25C 3/22 析出氣體之收集 [2]
C25C 3/24 精煉 [2]
C25C 3/26 鈦、鋯、鉿、鉭、或釩者 [2]
C25C 3/28 鈦者 [2]
C25C 3/30 錳者 [2]
C25C 3/32 鉻者 [2]
C25C 3/34 未列入3/00至3/02各目之金屬者 [2]
C25C 3/36 陰極還原其全部離子所製得的合金 [2]
C25C 5/00 金屬粉末或多孔金屬體之電解生產、回收或精煉 [2]
C25C 5/02 自溶液 [2]
C25C 5/04 自熔融液 [2]
C25C 7/00 電解槽之結構部件,或其組合件;電解槽之維護或操作(生產鋁者見3/06至3/22)[2]
C25C 7/02 電極(金屬精煉用之自耗陽極見1/00至5/00);電極之連接件 [2]
C25C 7/04 隔膜;間隔元件 [2]
C25C 7/06 操作或維護 [2]
C25C 7/08 沉積金屬於陰極上分離 [2]
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