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國際專利分類查詢
| G | 物理 |
|---|---|
| G01 | 測量（計量見G06M）；測試 |
| G01Q | 掃描探針技術或設備；掃描探針技術之應用，例如掃描探針顯微術[SPM][2010.01] |
| G01Q 10/00 | 掃描或定位裝置，即主動控制探針移動或位置之裝置 [2010.01] |
| G01Q 10/02 | 預掃描或定位 [2010.01] |
| G01Q 10/04 | 精細掃描或定位 [2010.01] |
| G01Q 10/06 | 其電路或演算法 [2010.01] |
| G01Q 20/00 | 監控探針之移動或位置[2010.01] |
| G01Q 20/02 | 藉由光學方式 [2010.01] |
| G01Q 20/04 | 自我偵測型探針，即表示其位置的信號由探針本身產生，例如內含壓電量計 [2010.01] |
| G01Q 30/00 | 用於協助或改善掃描探針技術、設備之輔助方法，例如顯示或資料處理裝置 [2010.01] |
| G01Q 30/02 | 非SPM分析裝置，例如SEM(掃描電子顯微鏡)、光譜儀或光學顯微鏡 [2010.01] |
| G01Q 30/04 | 顯示或資訊處理裝置 [2010.01] |
| G01Q 30/06 | 誤差補償 [2010.01] |
| G01Q 30/08 | 在樣品腔裡建立或調節期望環境條件之方法 [2010.01] |
| G01Q 30/10 | 高溫環境 [2010.01] |
| G01Q 30/12 | 流體環境 [2010.01] |
| G01Q 30/14 | 液體環境 [2010.01] |
| G01Q 30/16 | 真空環境 [2010.01] |
| G01Q 30/18 | 保護或隔離樣品腔內部免受外界環境條件或影響之方法，例如振動或電磁場 [2010.01] |
| G01Q 30/20 | 樣品處理裝置或方法 [2010.01] |
| G01Q 40/00 | 校正，例如探針的校正[2010.01] |
| G01Q 40/02 | 其製造的校正標準或方法 [2010.01] |
| G01Q 60/00 | 特殊形式的SPM(掃瞄探針顯微術)或為此特殊形式的SPM所需的設備；其基本零部件[2010.01] |
| G01Q 60/02 | 複數類型SPM，即涉及兩個或多個SPM技術 [2010.01] |
| G01Q 60/04 | STM(掃描穿隧顯微術)結合AFM(原子力顯微術) [2010.01] |
| G01Q 60/06 | SNOM(掃描近場光學顯微術)結合AFM(原子力顯微術) [2010.01] |
| G01Q 60/08 | MFM(磁力顯微術)結合AFM(原子力顯微術) [2010.01] |
| G01Q 60/10 | STM(掃描穿隧顯微術)或其設備，例如STM探針 [2010.01] |
| G01Q 60/12 | STS(掃描穿隧光譜術) [2010.01] |
| G01Q 60/14 | STP(掃描穿隧電位法) [2010.01] |
| G01Q 60/16 | 探針，其製造或其相關測試設備，例如：支座 [2010.01] |
| G01Q 60/18 | SNOM(掃描近場光學顯微術)或其設備，例如SNOM探針[2010.01] |
| G01Q 60/20 | 螢光 [2010.01] |
| G01Q 60/22 | 探針，其製造或其相關測試設備，例如：支座 [2010.01] |
| G01Q 60/24 | AFM(原子力顯微術)或其設備，例如AFM探針 [2010.01] |
| G01Q 60/26 | 磨擦力顯微術 [2010.01] |
| G01Q 60/28 | 黏著力顯微術 [2010.01] |
| G01Q 60/30 | 掃描電位顯微術 [2010.01] |
| G01Q 60/32 | 交流模式 [2010.01] |
| G01Q 60/34 | 輕敲模式 [2010.01] |
| G01Q 60/36 | 直流模式 [2010.01] |
| G01Q 60/38 | 探針，其製造或其相關測試設備，例如：支座 [2010.01] |
| G01Q 60/40 | 導電探針 [2010.01] |
| G01Q 60/42 | 功能化 [2010.01] |
| G01Q 60/44 | SICM(掃描離子電導顯微術)或其設備，例如SICM探針 [2010.01] |
| G01Q 60/46 | SCM(掃描電容顯微術)或其設備，例如SCM探針 [2010.01] |
| G01Q 60/48 | 探針，其製造或其相關測試設備，例如：支座 [2010.01] |
| G01Q 60/50 | MFM(磁力顯微術)或其設備，例如MFM探針 [2010.01] |
| G01Q 60/52 | 共振 [2010.01] |
| G01Q 60/54 | 探針，其製造或其相關測試設備，例如：支座 [2010.01] |
| G01Q 60/56 | 帶有磁性塗層之探針 [2010.01] |
| G01Q 60/58 | SThM(掃描熱顯微術)或其設備，例如SThM探針 [2010.01] |
| G01Q 60/60 | SECM(掃描電化學顯微術)或其設備，例如SECM探針 [2010.01] |
| G01Q 70/00 | 非G01Q 60/00特殊型式SPM技術所包含的SPM探針之ㄧ般特徵，其製造或其相關設備 [2010.01] |
| G01Q 70/02 | 探針支座 [2010.01] |
| G01Q 70/04 | 由於溫度或振動導致誤差之補償 [2010.01] |
| G01Q 70/06 | 探針頂端陣列 [2010.01] |
| G01Q 70/08 | 探針之特徵 [2010.01] |
| G01Q 70/10 | 形狀或錐度 [2010.01] |
| G01Q 70/12 | 奈米管探針 [2010.01] |
| G01Q 70/14 | 特殊材料 [2010.01] |
| G01Q 70/16 | 探針製造 [2010.01] |
| G01Q 70/18 | 功能化 [2010.01] |
| G01Q 80/00 | 除SPM外，掃描探針技術之應用(微米結構之製造或處理見B81C；奈米結構之製造或處理見B82B 3/00；藉由近場交互作用紀錄或再生資訊者見G11B 9/12，G11B 11/24或G11B 13/08) [2010.01] |
| G01Q 90/00 | 其它類不包括的掃描探針技術或設備 [2010.01] |