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69筆資料
H 電學
H05 其他類目不包括的電氣技術
H05H 用於電力光源之電路裝置或設備 [2022.01]
H05H 1/00 電漿之產生;電漿之控制(電漿技術在核融合反應器的應用見G21B 1/00)
H05H 1/02 用電場或磁場約束電漿之裝置;加熱電漿之裝置(電子光學見H01J)
H05H 1/03 應用靜電場者 [3]
H05H 1/04 應用實際上由電漿中之放電所產生的磁場者
H05H 1/06 縱向箍縮裝置
H05H 1/08 θ箍縮裝置
H05H 1/10 僅應用外加磁場者
H05H 1/11 應用尖頂形者(1/14優先)[3]
H05H 1/12 其中該容器外殼形成一個閉合回路者,例如:仿星器
H05H 1/14 其中該容器外殼係直的且有磁鏡者
H05H 1/16 應用外加電場及磁場者
H05H 1/18 其中該場以甚高頻振盪的,例如:在微波範圍內
H05H 1/20 歐姆加熱者
H05H 1/22 用於噴射加熱者
H05H 1/24 電漿之產生 [2]
H05H 1/26 電漿噴管 [2]
H05H 1/28 冷卻裝置 [3]
H05H 1/30 應用外加電磁場者,例如:高頻能或微波能(1/28優先)[3]
H05H 1/32 應用電弧者(1/28優先)[3]
H05H 1/34 零部件,例如:電極,噴嘴 [3]
H05H 1/36 電路裝置(1/38,1/40優先)[3]
H05H 1/38 電極之導向或對中 [3]
H05H 1/40 應用外加磁場者,例如用於聚焦電弧或旋轉電弧者 [3]
H05H 1/42 電漿技術(專門適用於產生X射線之設備或製程見H05G2/00);中子或加速的帶電粒子之產生;原子射束或中性分子之產生或加速
H05H 1/44 應用多於一個噴管者 [3]
H05H 1/46 應用外加電磁場者,例如:高頻能或微波能(1/26優先)[3]
H05H 1/48 應用電弧者(1/26優先)[3]
H05H 1/50 且應用外加磁場者,例如:用於聚焦電弧或旋轉電弧者 [3]
H05H 1/52 應用導火線或火花隙者(1/26優先)[3,2006.01]
H05H 1/54 電漿加速器 [3]
H05H 3/00 中性粒子束,例如:分子束或原子束,之產生或加速 [3]
H05H 3/02 分子束或原子束之產生,例如:諧振射束之產生[3,2006.01]
H05H 3/04 利用電極波壓力加速者 [3]
H05H 3/06 中子束之產生(用於產生核反應之靶見6/00;中子源見G21G 4/02)[5]
H05H 5/00 直流電壓加速器;應用單脈衝之加速器(3/06優先)[5]
H05H 5/02 零部件(用於產生核反應之靶見6/00)[3]
H05H 5/03 加速管[4,2006.01]
H05H 5/04 利用靜電發電機供電者,例如:利用Van de Graaff發電機 [4]
H05H 5/06 串聯加速器;多級加速器
H05H 5/08 應用升壓變壓器之粒子加速器,例如:諧振變壓器 [4]
H05H 6/00 用於產生核反應之靶(靶或被輻照目標物之支架見G21K5/08)[3]
H05H 7/00 9/00至13/00各目包括的各種裝置之零部件(用於產生核反應之靶見6/00)[3]
H05H 7/02 用於供給或饋送射頻能量之電路或系統[1,2006.01]
H05H 7/04 磁體系統;其激勵
H05H 7/06 雙射束裝置;多射束裝置
H05H 7/08 用於向軌道內注入粒子之裝置
H05H 7/10 用於由軌道中射出粒子之裝置
H05H 7/12 用於改變射束最後能量之裝置
H05H 7/14 真空室(5/03優先)[4]
H05H 7/16 導波型者 [4]
H05H 7/18 空腔;諧振腔 [4]
H05H 7/20 有超導壁者 [4]
H05H 7/22 線性加速器之零部件,例如:漂移管(7/02至7/20優先)[4]
H05H 9/00 線性加速器(11/00優先)
H05H 9/02 行波線性加速器
H05H 9/04 駐波線性加速器
H05H 11/00 磁感應加速器,例如電子磁感應加速器
H05H 11/02 空心型電子磁感應加速器
H05H 11/04 附加勵磁型電子磁感應加速器
H05H 13/00 磁共振加速器;回旋加速器
H05H 13/02 同步回旋加速器,即:調頻回旋加速器
H05H 13/04 同步加速器
H05H 13/06 空心型磁共振加速器
H05H 13/08 交變梯度磁共振加速器
H05H 13/10 包括有一個或多個線性加速段及彎曲磁鐵或類似彎曲磁鐵之能使帶電粒子在平行於第一個加速段之軌導內返回的裝置之加速器,例如電子回旋加速器 [4]
H05H 15/00 其他類目不包括而用於帶電粒子加速之方法或設備 [4]
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