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答：本次修正的重點包含：
(1)    放寬發明專利申請案得申請延緩實體審查、續行審查日期之期限，由現行3年放寬為5年；放寬設計專利申請案得申請延緩實體審查、續行審查日期之期限，由現行1年放寬為2年。 
(2)    明定發明及設計專利申請案延緩實體審查之申請，以一次為限。
(3)    明定專利專責機關得不受理延緩實體審查之申請，或終止延緩實體審查程序之依據，包含：對公益或第三人利益有重大影響之虞者，專利專責機關得不受理延緩實體審查之申請或終止已受理之延緩實體審查程序。