專利分析之申請流向圖應用與分析—以寬能隙半導體元件為例
世界智慧財產權組織於近幾年的專利、商標分析報告中常利用流向圖作為數
據可視化分析與管理,以利閱覽者可透過流向圖更能夠迅速了解該項產業的技術
專利或商標布局的動向,因此在本文中將以實際數據進行實作,並以專利布局流
向圖進行分析,希冀藉由專利布局流向圖能使決策者更能理解產業技術專利布局
趨勢。
作者 : 陳建翰*、許哲瑋**
* 作者現為財團法人專利檢索中心人員。 ** 作者現為財團法人專利檢索中心人員。
- 發布日期 : 113-01-31
- 更新日期 : 113-12-03
- 發布單位 : 專利行政企劃組
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