新型專利申請案較常發生不符合形式審查要件之情況，其中除新型標的不適格外，尚有「未符合揭露形式」、「未揭露必要事項」及「揭露明顯不清楚」等。再者，民國102 年專利法新增之形式審查要件為「修正明顯超出」，亦開始有不符規定之案件發生。雖然實務上，相關的判斷原則已於專利法、專利法施行細則或專利審查基準中明定，惟申請人於撰寫說明書、申請專利範圍或圖式時仍有漏未注意情事，進而衍生相關之行政爭訟案件。本文藉由行政爭訟案例分析上揭不符揭露及修正要件之案件態樣，提供申請人撰寫新型專利說明書、申請專利範圍或圖式時減少錯誤之機率。

作者 : 周光宇
專利審查官

• 發布日期 : 108-06-04
• 更新日期 : 113-12-03
• 發布單位 : 專利行政企劃組
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