高濺鍍速率LCD用鋁靶之製造方法
純度高達 99.999wt.% 的高純度鋁因電阻低、導電性佳,被製作成鋁靶,
透過濺鍍方式將其沉積於玻璃基板上,成為 LCD 中薄膜電晶體的薄膜導電層,扮演傳輸影像訊號的角色。
中鋼研發團隊透過鋁靶微觀組織控制,開發品質超越日本之高品級鋁靶,提供國內各 LCD 面板大廠使用,
整合高純度鋁靶之『顯微組織』、『織構』、『靶面品質』與『濺鍍速率』之間的關係,
釐清鋁靶晶粒尺寸及方向性對鋁靶濺鍍速率之影響,進一步開發四項關鍵核心製程技術,
成功產出品質超越日本之 LCD 用高純度鋁靶,深獲各面板業者肯定,
已成功推廣於國內 LCD 面板大廠(友達、奇美),在臺灣市佔率高達 50%,
每年為國內光電靶材產業創造約 5 億元的產值,亦為國內 LCD 面板廠商節省約 2 億元的鋁靶使用成本。
- 發布日期 : 104-03-13
- 更新日期 : 110-03-18
- 發布單位 : 專利行政企劃組
- 瀏覽人次 : 1145