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高濺鍍速率LCD用鋁靶之製造方法

國發獎-103017

純度高達 99.999wt.% 的高純度鋁因電阻低、導電性佳,被製作成鋁靶,

透過濺鍍方式將其沉積於玻璃基板上,成為 LCD 中薄膜電晶體的薄膜導電層,扮演傳輸影像訊號的角色。

中鋼研發團隊透過鋁靶微觀組織控制,開發品質超越日本之高品級鋁靶,提供國內各 LCD 面板大廠使用,

整合高純度鋁靶之『顯微組織』、『織構』、『靶面品質』與『濺鍍速率』之間的關係,

釐清鋁靶晶粒尺寸及方向性對鋁靶濺鍍速率之影響,進一步開發四項關鍵核心製程技術,

成功產出品質超越日本之 LCD 用高純度鋁靶,深獲各面板業者肯定,

已成功推廣於國內 LCD 面板大廠(友達、奇美),在臺灣市佔率高達 50%,

每年為國內光電靶材產業創造約 5 億元的產值,亦為國內 LCD 面板廠商節省約 2 億元的鋁靶使用成本。

  • 發布日期 : 104-03-13
  • 更新日期 : 110-03-18
  • 發布單位 : 專利行政企劃組
  • 瀏覽人次 : 927

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