專題二由葉哲維先生所著之「專利侵害鑑定要點之修訂—設計篇」先簡要說明新、舊版本設計專利之侵權判斷流程，再以埃及女神案廢棄新穎特徵檢測法之理由說明修正本鑑定要點之考量，再逐步開展擴及設計專利權範圍之確定、侵權判斷主體及三方比對的判斷方法等，最後說明民國102年1月1日修正施行之專利法擴大保護的部分設計、圖像設計、成組設計及衍生設計等設計專利的侵權判斷內容。


智慧財產權月刊207期

• 發布日期 : 105-03-03
• 更新日期 : 113-12-06
• 發布單位 : 經濟部智慧財產局
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