一般申請設計專利案的圖式中，虛線代表不主張設計之部分，然而某些情形下卻會有相反狀況。虛線該如何認定以及其對解釋專利權範圍有何影響，始終是個爭議之議題。論述由葉哲維先生、徐銘夆先生所著之「研析虛線對解釋申請專利之設計的影響－以美國iPhone設計專利單方再審查案為中心」，首先就美國單方再審查及部分設計專利制度進行介紹，續就iPhone設計再審查案例進行案情說明及討論；最終對於虛線該如何認定及解釋總結看法與結論。

  智慧財產權月刊221期

• 發布日期 : 106-05-03
• 更新日期 : 113-12-06
• 發布單位 : 資料服務組
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