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解析日、韓與我國圖像設計審查實務─以一設計一申請原則為中心

隨數位科技的發展,圖像設計有可能在使用過程中產生複數變化之外觀,為此,日本及韓國不約而同的在2016年圖像設計審查基準修正中,進行規範與案例擴充。專題二由徐銘夆先生所著之「解析日、韓與我國圖像設計審查實務─以一設計一申請原則為中心」,就日本與韓國最新規定進行介紹,並與我國在圖像設計一設計一申請原則的判斷進行比較,希冀作為我國未來修訂設計專利審查基準之參考。

 

*智慧財產權月刊電子書

  • 發布日期 : 107-05-31
  • 更新日期 : 113-12-09
  • 發布單位 : 經濟部智慧財產局
  • 瀏覽人次 : 453

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