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我國與中國大陸於圖像設計保護近期變革

以圖像設計之保護沿革為題,介紹我國與中國大陸歷經數次專利審查基準修正過程,說明圖像設計保護態樣、圖式要求等修正內容,並分析修法過程所帶來的實務影響,期能為新興產業的技術及產品帶來更有效的專利保護,確保無形資產價值。

  • 發布日期 : 111-04-05
  • 更新日期 : 111-03-29
  • 發布單位 : 國際及法律事務室
  • 瀏覽人次 : 375

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