原告甲公司於103年8月1日間併購主要生產捲帶式封裝載板（或稱軟性基板，Chip On Film，下稱COF）之乙公司，被告丙、丁、戊原皆為乙公司經理級以上高階主管，卻於102年至103年間，先後跳槽乙公司競爭對手己公司，分別擔任總經理、副總經理及設計部處長，戊並將其於乙公司任職時製作之技術文件A攜至己公司，並據以申請系爭專利a、專利b，導致甲公司營業秘密技術因專利a、專利b獲准而公開，喪失秘密性。

甲公司起訴主張上述戊之行為，侵害其營業秘密，依營業秘密法第12條第1項請求損害賠償，另丙、丁為戊之上司，明知上開情形，仍批准戊申請專利，導致甲公司營業秘密技術公開，應負共同侵權責任，並請求確認甲公司為系爭專利a、專利b之共同申請權人。被告等人則以技術文件A不具秘密性、經濟價值，且乙公司100年至101年間未採取合理保密措施為由，作為抗辯。

本案經兩造協議，可就「營業秘密及侵權之認定」為中間判決，智慧財產及商業法院審理後，認為就此部分已達可為裁判之程度，爰為中間判決，認定丙、丁、戊共同侵害甲公司營業秘密，見解如下：

一、技術文件A為甲公司所有
技術文件A為被告戊任職於乙公司時所製作，甲公司為甲、乙兩公司合併後之存續公司，乙公司全部資產及權利、義務均由甲公司概括承受，是技術文件A為甲公司所有。

二、技術文件A內之「設計工程部CAD/CAM組底片補償程式」為營業秘密
(一)技術文件A內之「設計工程部CAD/CAM組底片補償程式」，業已揭露需進行補償之圖樣情況，並就特定區域設定不同補償規則，而該等補償條件、規則或參數為乙公司長久以來依COF線路圖案轉換成光罩圖所得之經驗，且前述外擴部線路補償量及條件等資訊並非為一般涉及該領域之人所能知悉，具秘密性。

(二)技術文件A內之「設計工程部CAD/CAM組底片補償程式」，包含甲公司就COF製程相關技術秘密，甲公司透過該所屬技術領域之人員經長期經驗累積及投入實驗研究，使其獲得蝕刻製程相關補償方式、數值等資訊，而在市場上取得相當競爭地位，若競爭對手取得該等資訊，將得以掌握甲公司之光罩線路補償資訊，縮短研究時間及成本，並與甲公司競爭相同產品之客戶，足以造成甲公司經濟利益之損失、削減其競爭優勢，是該等資訊自具「經濟價值」。

(三)乙公司設有終端機伺服器集中管理電子檔案，並透過配發員工個人專屬帳號、密碼，按員工職級設定不同存取權限之方式管制機密文件；技術文件A存放於公司內部電腦終端伺服器之專用資料夾，且僅設有少數員工有存取權限；且乙公司對於員工「使用USB或私人電腦存取終端機伺服器檔案」，或「將終端機伺服器之檔案以私人電子信箱傳送、或上傳至私人雲端資料夾」等行為皆有所控管，可認乙公司已採合理保密措施，故技術文件A內之「設計工程部CAD/CAM組底片補償程式」為營業秘密。

三、侵權之認定
(一)專利a、專利b申請專利範圍與技術文件A之「設計工程部CAD/CAM組底片補償程式」內所示資訊，構成實質相同綜合判斷專利a、專利b申請專利範圍所載主要技術特徵，即所欲解決之問題或達成功效之構想，及達成該構想之技術手段，是否為名義上專利權人、登記發明人或創作人所發想，應認系爭專利a請求項13、系爭專利b請求項1與技術文件A之「設計工程部CAD/CAM組底片補償程式」內所示資訊，構成實質相同，且應係由前揭技術內容衍生而得。

(二)被告丙、丁、戊對於利用技術文件A「設計工程部CAD/CAM組底片補償程式」，申請專利a及專利b，成立共同侵權
1.經比技術文件A與戊任職於己公司後使用之隨身硬碟內，檔案名稱為「HXQTESTJMC-UNE（Low pressure-DEV-1-MEC）.xls」之技術文件，兩者編排、架構、圖形、文字敘述等幾近完全相同，核心技術觀念、方法、重點內容均屬一致，足見該技術文件，應為重製於技術文件A而來。又被告戊任職乙公司時，擔任設計工程部經理，並依其職務為乙公司製作技術文件A，當知技術文件A之「設計工程部CAD/CAM組底片補償程式」之資訊係屬乙公司COF製程技術之營業秘密，仍擅自將技術文件A「設計工程部CAD/CAM組底片補償程式」電子檔案重製，並使用於己公司，據此申請與上開技術實質相同之系爭專利a請求項13之申請專利範圍內容、系爭專利b請求項1之申請專利範圍內容，即屬營業秘密法第10條第1項第4款規定侵害營業秘密之情形。

2.被告丙、丁原於乙公司任職時分別擔任總經理、副總經理，依其當時業務範圍均已知悉技術文件A內之「設計工程部CAD/CAM組底片補償程式」全部內容，又丙、丁於任職己公司後，負責與乙公司相同之職務內容，復參以其等均為該領域之專業人士，且為戊之上級主管，應認戊以系爭專利a、專利b為發明人為申請專利時，丙、丁即應知悉系爭專利a請求項13、系爭專利b請求項1之技術內容，與技術文件A內之「設計工程部CAD/CAM組底片補償程式」，屬於實質相同之創作，是其等主觀上已知申請系爭專利a、b之行為，將造成技術文件A內之「設計工程部CAD/CAM組底片補償程式」遭公開而喪失秘密性，仍為該等專利申請之批核，核屬故意，且其等所為與戊前述侵害行為，均為甲公司受有損害之共同原因，自應成立共同侵權行為。

• 發布日期 : 112-04-05
• 更新日期 : 112-09-05
• 發布單位 : 國際及法律事務室
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