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第4次五大工業設計局(ID5)會議

  • 發布日期: 108 年 01 月 03 日

2018年11月5-6日,世界五大局工業設計局(簡稱ID5),即日本特許廳(JPO)、美國專利商標局(USPTO)、歐盟智慧財產局(EUIPO)、中國大陸國家知識產權局(CNIPA)及韓國智慧財產局(KIPO)主管參加在韓國首爾、由KIPO主辦的第4次ID5年度會議,世界智慧財產權組織(WIPO)以觀察員身份出席,會中通過「ID5共同聲明」,表示將致力因應第四次工業革命,強化對新技術設計的保護,並決議採取新的措施來加強國際設計保護制度調和性,提升使用者便利性。會中達成下列成果:

一、加強新技術設計的保護
ID5彙整了五局關於設計保護制度的比較調查結果,包括數位技術(例如GUI)衍生的新技術設計的保護措施、各類設計的保護要件、部分設計及優惠期等;另外,亦舉辦使用者會議,分享研究調查結果,相互交換意見,使用者代表簡報保護各種不同新技術設計的重要性,並要求設計保護制度實務的國際調和。

二、設計保護制度國際調和的新計畫
ID5通過了下列6個新的合作計畫,希望持續促成設計制度的國際調和及提升使用者便利性:
 1.3D列印設計保護相關研究
 2.設計資料資源(非專利文獻)相關研究
 3.品質管理相關研究
 4.採納網路合法揭露資訊的新穎性審查相關研究
 5.設計侵權行為的補救措施及救濟相關研究
 6.ID5「建議設計實務」(Recommended Design Practices)相關研究

ID5尤其聚焦在以設計法條約(Design Law Treaty,DLT)草案為基礎的「建議設計實務」,DLT旨在達成設計申請程序(形式要件)的國際調和,但採認條約的討論一直停滯於WIPO,ID5決議啟動一項新計畫來推動國際調和措施,並由JPO和USPTO主導該計畫。

三、五大局之間的後續合作
ID5決議2019年第5次年度會議將在日本舉行,由JPO主辦。JPO在2018年會議中提出慶祝5週年的ID5未來合作方案,2019年會議將在ID5過去的合作成果下,討論加強國際調和的未來方向及提升設計權保護品質。

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  • 發布單位:資料服務組  更新日期: 108 年 01 月 03 日  瀏覽人次:561