案情說明

      原告前於104年6月25日以「膠態氧化矽化學機械拋光組合物」向智慧局申請發明專利，申請專利範圍共42項，並以103年6月25日申請之美國第62/017,100號專利案主張優先權，經智慧局准予專利（公告號第I561622號，下稱系爭專利）。嗣參加人以系爭專利違反核准時專利法第22條第2項、第26條第1項及第2項規定提起舉發。案經智慧局審查以專利舉發審定書為「請求項1至42舉發不成立」之處分。參加人不服，提起訴願，經經濟部(以下稱被告)以114年6月4日訴願決定為「原處分撤銷，由原處分機關於6個月內另為適法之處分」決定後，原告不服訴願決定，向智慧財產及商業法院提起訴訟。

      智慧財產及商業法院判決如下：「一、訴願決定撤銷。二、訴訟費用由被告負擔。」

智慧財產及商業法院判決意旨摘要

一、 系爭專利請求項1至42已為說明書所支持，並未違反核准時專利法第 26條第2項之規定

(一) 核准時專利法第26條第2項規定：「申請專利範圍應界定申請專利之發明；其得包括一項以上之請求項，各請求項應以明確、簡潔之方式記載，且必須為說明書所支持。」而請求項必須為說明書所支持，係要求每一請求項記載之申請標的必須根據說明書揭露之內容為基礎，且請求項之範圍不得超出說明書揭露之內容（專利審查基準第二篇第一章第2.4.3節參照）。判斷系爭專利請求項是否符合支持要件，應係基於系爭專利說明書整體內容予以判斷，而非僅比對特定實施例，先予陳明。

(二) 查系爭專利說明書於實例13已說明如何將含氮化合物併入粒子內，且於實例2亦說明將不同含氮化合物併入，更於實例10證明併入粒子內部之含氮化合物不會在三個過濾循環中移除，該化合物對ζ電位的影響不因三個過濾循環而有實質上的改變。此外，系爭專利說明書更透過實例2、3、11、12及15以說明多種調整CMP組合物之粒子的永久正電荷的手段。基於該等實例例示教導以及系爭專利說明書對於含氮化合物的記載說明，並參酌申請時之通常知識，CMP領域中具有通常知識者即能總括得到符合系爭專利請求項1、2及其附屬項（請求項第3至42）所述之膠態氧化矽磨料粒子，並製備如系爭專利請求項1、2及其附屬項之化學機械拋光組合物，以及進一步將該等組合物應用於如請求項35（及其附屬項）所述對包含矽氧材料之基板進行化學機械拋光之方法。因此，原處分認定系爭專利之申請專利範圍可為說明書所支持，即屬有據。

(三) 參加人雖主張系爭專利說明書僅有實例10有提及膠態氧化矽磨料粒子之永久正電荷，其餘實施例均未稱其所量測之ζ電位為永久正電荷，且該實例10與請求項1「其中該化學物質不為胺基烷基」之界定不符，亦非請求項2之實例。另系爭專利說明書之實例無一涉及含磷化合物之併入，且系爭專利說明書全文未具體揭示請求項1、2膠態氧化矽磨料粒子之製備及量測方法，如何確認含氮或含磷的化學物質是否位於粒子之外表面內，故無法由說明書揭露内容合理預測或延伸至系爭專利請求項之範圍等等。惟其主張均非可採，理由如下：

1. 判斷系爭專利請求項是否符合支持要件，應係基於系爭專利說明書整體內容予以判斷，而非僅比對特定實施例。由於化學機械拋光(CMP)組合物領域中具有通常知識者基於系爭專利說明書整體內容可總括得到符合請求項1、2所述之膠態氧化矽磨料粒子，並製備如請求項1、2之化學機械拋光組合物，而非得僅以實例10與請求項1、2之異同，或是否有於粒子內併入含磷化合物之具體實例為由，即論斷所屬技術領域中具有通常知識者必然無法合理預測或延伸至系爭專利請求項之範圍。
2. 依系爭專利說明書第[0022]至[0031]段說明製作具有內部化學物質之膠態氧化矽粒子的方法，第[0111]至[0173]段提出20個實例，其中記載有將化學物質併入膠態氧化矽磨料粒子外表面之具體實施態樣，亦包括永久正電荷之量測而得以驗證膠態氧化矽磨料粒子確可帶有相當毫伏之永久正電荷，另第[0012]、[0014]及[0015]段中教導可併入本發明膠態氧化矽粒子之含磷化合物，則所屬技術領域中具有通常知識者確可依照含氮化合物之製備方法將含磷化合物添加於粒子生長液中，以獲得內部併有含磷化合物之膠氧化矽粒子，基於系爭專利說明書所揭示內容製備如請求項1、2所述之膠態氧化矽磨料粒子，是參加人主張系爭專利說明書未具體揭示請求項1、2之膠態氧化矽磨料粒子之製備及量測方法，即屬無稽。復如前述，系爭專利說明書第[0044]至[0045]段記載「一永久正電荷可係粒子中併入帶正電荷物質之結果。一永久正電荷可進一步由粒子與帶正電荷之物質之間之共價相互作用而造成……」，可知系爭專利說明書及請求項所述「永久正電荷」非僅著眼於源自於將含氮或含磷的化學物質併入膠態氧化矽磨料粒子之外表面內後所生者。因此，參加人以系爭專利說明書未揭示「將含氮或含磷的化學物質併入磨料粒子之外表面內之後，所增加之永久正電荷」為由，指摘系爭專利請求項不符支持要件，即非有據。 

二、系爭專利之主要圖式