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經濟部智慧財產局

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布告欄

115年2月號第326期智慧財產權月刊出版新訊

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本月專題—五大工業設計局之圖像設計保護制度介紹

      隨著數位科技的發展與應用多元,圖像設計已從應用於產品實體上,廣泛擴展至投影式介面、全像圖影像、虛擬實境及擴增實境等空間型數位設計,因而設計專利制度面臨衝擊與挑戰,促使許多國家修正專利法規及審查基準,以擴大圖像設計的保護客體及適用範圍。本月專題彙整介紹美國、中國大陸、日本、南韓及歐盟等五大工業設計局成員之近期制度發展,期能協助各界掌握圖像設計保護之國際脈動與實務方向。

 

 

 

 

 

 

詳細內容,請參閱下列相關連結

本月專題文章:五大工業設計局之圖像設計保護制度介紹

專題一:五大工業設計局之圖像設計保護制度介紹(上)——美國及中國大陸(莊彩雪、耿筠)

專題二:五大工業設計局之圖像設計保護制度介紹(下)——日本、南韓及歐盟(莊彩雪、耿筠)

本月論述文章:

論述:文化創意永續與技術發展並進:我國著作權法資料探勘例外之增修可行性(李姿儀、李諺樺)

  • 發布日期:115-02-01
  • 更新日期: 115-01-30
  • 發布單位:國際及法律事務室
  • 點閱次數:35
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